中国囤积 ASML 光刻机，促使美国呼吁全面禁止出口

技术与治国方略中心 (CTS) 的报告为华盛顿关于对中国 DUV 工具出口管制的讨论增添了新数据。这项研究由美国前出口管制官员 Nicholas Brown 和前白宫顾问 Saif Khan 共同撰写，表明中国晶圆厂已积累了大量此类机器。

尽管 DUV 工具不如 EUV 系统先进，但报告指出它们可以改装用于制造 7 纳米逻辑芯片和用于 AI 处理器的高级内存。这种适应性是全面封锁 DUV 工具论点中的一个关键点，因为它表明中国尽管受到现有限制，仍有途径推进其国内芯片生产。

预计到 2026 年初获得 343 台浸润式 DUV 系统，表明中国半导体制造商采取了战略举措。这种积累可能是为了建立足够的设备装机量以维持生产能力，从而可能减轻未来更严格出口管制的影响。