三星下一代晶片製程技術疑透過大學合作研究洩露

起訴書涉及一名大學研究人員，該研究人員被指控在參與與 Samsung Electronics 的聯合研究項目時，洩露了敏感的半導體製程數據。據報道，被移除的資料包括未發佈的下一代產品的極紫外光（EUV）微影資訊。EUV 是一種關鍵技術，利用短波長光蝕刻精細電路，對於提高晶片密度和簡化製造步驟至關重要，而這些數據涵蓋了光阻類型和特定製程條件等詳細資訊。

調查人員發現，該研究人員在 Samsung 擁有臨時僱員身份，透過大學與產業合作基金會獲得內部技術文件。此事件凸顯了技術保護方面日益嚴峻的挑戰，因為洩密事件現在越來越多地利用合法的商業關係，例如學術合作夥伴關係或諮詢合約，而不僅僅涉及傳統的內部威脅或直接的金錢交易。這些方法使未經授權的數據移除難以早期檢測。

雖然檢察機關正在審查外部傳輸的可能性，但沒有確認資料已傳輸到國外，包括中國。據報道，Samsung 在早期階段就檢測到數據移除，從而在任何海外洩漏發生之前進行了調查。法院駁回了拘留令的請求，理由是已獲得實質證據，且該研究人員配合了訊問。