Gigaphoton 開始評估 L300KZ 準分子激光器，用於先進材料應用的脈衝激光沉積

這項發展標誌著將傳統用於半導體光刻的準分子激光技術應用於先進材料的又一步。Gigaphoton 正利用其既有專業知識開發用於脈衝激光沉積（PLD）的激光器，PLD 是形成高品質薄膜的關鍵工藝。L300KZ 激光器專為支持稀土鋇銅氧化物（REBCO）電線的大規模生產而設計，REBCO 電線是聚變反應堆中超導磁體的一個組件。

目前階段涉及在實際的 PLD 薄膜沉積環境中評估激光器。這意味著該項目現在將專注於了解激光操作條件如何影響沉積過程。目標是改進製造技術，提高超導線的質量，並建立大批量生產的方法。

雖然目前的重點是聚變反應堆用高溫超導線，但 Gigaphoton 也預計其 PLD 技術將有更廣泛的應用。該公司看到了在各種先進材料領域的潛力，包括功能薄膜、先進電子材料和光學材料。這表明其激光技術的戰略性擴展，超越了其核心半導體光刻業務，進入更廣泛的工業應用領域。