🇨🇳中國·AI 新聞·2026年10月2日·來源： SCMP
中國囤積 ASML 光刻機，促使美國呼籲全面禁止出口
中國半導體工廠已累積數百台浸潤式光刻機，促使美國前官員呼籲全面禁止出口。技術與治國方略中心 (CTS) 的一份報告估計，到 2026 年初，中國擁有的晶圓廠將獲得 343 台浸潤式深紫外光 (DUV) 系統。
Nexa 摘要
技術與治國方略中心 (CTS) 的報告為華盛頓關於對中國 DUV 工具出口管制的討論增添了新數據。這項研究由美國前出口管制官員 Nicholas Brown 和前白宮顧問 Saif Khan 共同撰寫，表明中國晶圓廠已積累了大量此類機器。
儘管 DUV 工具不如 EUV 系統先進，但報告指出它們可以改裝用於製造 7 納米邏輯晶片和用於 AI 處理器的高級記憶體。這種適應性是全面封鎖 DUV 工具論點中的一個關鍵點，因為它表明中國儘管受到現有限制，仍有途徑推進其國內晶片生產。
預計到 2026 年初獲得 343 台浸潤式 DUV 系統，表明中國半導體製造商採取了戰略舉措。這種積累可能是為了建立足夠的設備裝機量以維持生產能力，從而可能減輕未來更嚴格出口管制的影響。
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