七成半韓國半導體技術洩漏案與中國有關

韓國法院案件詳細描述了技術從韓國洩漏到中國的重複模式，突顯了半導體行業在保護知識產權方面面臨的持續挑戰。文章描述了員工使用隱藏的 USB 隨身碟拍攝製造藍圖，然後據稱透過電郵發送給中國公司等方法。

被定罪的技術盜竊者平均刑期相對較短，通常不足三年，這引發了人們對現行法律框架阻嚇作用的質疑。例如，一名參與將 SK hynix 國家核心技術洩漏給中國 CXMT 的員工獲得緩刑，而一名高管則被判處 18 個月監禁。在 44 名被監禁者中，只有三人獲得超過五年的刑期。

這些事件集中發生，24 宗案件中有 18 宗，90 名被告中有 82 名與中國有關，這表明中國有針對性地獲取半導體專業知識。這些努力從 2010 年代後期開始加劇，當時中國加速推進半導體產業，目標不僅限於傳統記憶體晶片，還包括其他先進技術。