三星下一代芯片制程技术疑通过大学合作研究泄露

起诉书涉及一名大学研究人员，该研究人员被指控在参与与 Samsung Electronics 的联合研究项目时，泄露了敏感的半导体制程数据。据报道，被移除的资料包括未发布的下一代产品的极紫外光（EUV）光刻信息。EUV 是一种关键技术，利用短波长光刻蚀精细电路，对于提高芯片密度和简化制造步骤至关重要，而这些数据涵盖了光刻胶类型和特定制程条件等详细信息。

调查人员发现，该研究人员在 Samsung 拥有临时雇员身份，通过大学与产业合作基金会获得内部技术文件。此事件凸显了技术保护方面日益严峻的挑战，因为泄密事件现在越来越多地利用合法的商业关系，例如学术合作伙伴关系或咨询合同，而不仅仅涉及传统的内部威胁或直接的金钱交易。这些方法使未经授权的数据移除难以早期检测。

虽然检察机关正在审查外部传输的可能性，但没有确认资料已传输到国外，包括中国。据报道，Samsung 在早期阶段就检测到数据移除，从而在任何海外泄露发生之前进行了调查。法院驳回了拘留令的请求，理由是已获得实质证据，且该研究人员配合了讯问。