中國儲備343台浸潤式DUV機器，獲得7納米AI晶片基礎

這些DUV機器的採購，特別是NXT:1980i型號，似乎源於美國出口管制中存在的漏洞。儘管先進的極紫外光（EUV）系統受到限制，但較舊的DUV型號，包括浸潤式DUV，仍可透過荷蘭政府逐案審批獲得。這種區別使中國能夠繼續進口設備，儘管這些設備並非最尖端，但仍可應用於先進晶片製造。報告指出，中國在2024年和2025年花費超過130億美元購買額外的NXT:1980i機器。

浸潤式DUV技術透過在鏡頭和晶圓之間使用水，提高了精度，相較於乾式DUV，能夠生產7納米邏輯晶片和高端記憶體。中國將這些進口機器與多重圖案化技術（一種以重疊層繪製電路的技術）結合的策略，表明其正努力克服DUV固有的限制。這種方法旨在最大限度地利用現有技術來生產華為Ascend AI加速器和先進記憶體等組件。

美國智庫預計，如果中國每年繼續進口90台NXT:1980i機器，到2035年，每年可能生產多達4.34億枚高性能AI晶片，研究人員將其等同於Nvidia的H100圖形處理器。這一預測表明，目前DUV機器的可及性可能顯著提升中國國內AI晶片產量，即使中國同時也在追求自主DUV設備的開發。