AI需求激增 ASML擊敗台積電、三星贏得EUV機器訂單

台積電和三星分別承諾在2030年和2028年前部署ASML的高NA EUV微影設備，標誌著亞洲晶片製造主導地位的關鍵一步。此舉，加上Intel現有的採用，鞏固了該地區在先進半導體生產（對AI發展至關重要）方面的領先地位。向12英吋光罩的轉變是一項協調一致的努力，有望大幅提高產量並簡化設計流程，可能使高NA機器的產出增加40%。儘管技術飛躍帶來顯著的生產力效益，但漫長的準備時間（台積電的12英吋光罩高NA工具全面生產目標為2033年）表明，AI晶片需求激增的即時緩解仍遙遙無期。與此轉變相關的複雜性和成本長期以來被視為障礙，現在正透過產業合作解決，但這些多年期路線圖的執行風險依然存在。