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    🇰🇷韩国·AI 新闻·2026年10月5日·来源: 서울경제

    中国储备343台浸润式DUV机器,获得7纳米AI芯片基础

    一份美国智库报告称,截至今年初,中国芯片厂已采购343台浸润式深紫外光(DUV)光刻机。据报道,这些机器,包括270台ASML Twinscan NXT:1980i型号,能够生产7纳米逻辑芯片和高端存储器,挑战美国旨在限制中国先进半导体发展的出口管制。

    Nexa 摘要

    这些DUV机器的采购,特别是NXT:1980i型号,似乎源于美国出口管制中存在的漏洞。尽管先进的极紫外光(EUV)系统受到限制,但较旧的DUV型号,包括浸润式DUV,仍可通过荷兰政府逐案审批获得。这种区别使中国能够继续进口设备,尽管这些设备并非最尖端,但仍可应用于先进芯片制造。报告指出,中国在2024年和2025年花费超过130亿美元购买额外的NXT:1980i机器。

    浸润式DUV技术通过在镜头和晶圆之间使用水,提高了精度,相较于干式DUV,能够生产7纳米逻辑芯片和高端存储器。中国将这些进口机器与多重图案化技术(一种以重叠层绘制电路的技术)结合的策略,表明其正努力克服DUV固有的限制。这种方法旨在最大限度地利用现有技术来生产华为Ascend AI加速器和先进存储器等组件。

    美国智库预计,如果中国每年继续进口90台NXT:1980i机器,到2035年,每年可能生产多达4.34亿枚高性能AI芯片,研究人员将其等同于Nvidia的H100图形处理器。这一预测表明,目前DUV机器的可及性可能显著提升中国国内AI芯片产量,即使中国同时也在追求自主DUV设备的开发。

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